描述热氧化过程。

[问答题,论述题] 简述在热氧化过程中杂质再分布的四种可能情况。

[填空题] 根据氧化剂的不同，热氧化可分为（）、（）和（）。

[填空题] 列出热氧化物在硅片制造的4种用途（）、（）、场氧化层和（）。

[单选题]火焰加热氧化焰的最高温度可达到（）A .2000℃B .2300℃C .3000℃D .3300℃

[填空题] 热氧化工艺的基本设备有三种（）、（）和（）。

[问答题,论述题] 简述常规热氧化办法制备SiO2介质薄膜的动力学过程，并说明在什么情况下氧化过程由反应控制或扩散控制。

[单选题]采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。A . 结晶形态B . 非结晶形态C . 可能是结晶形态的，也可能是非结晶形态的D . 以上都不对

[单选题]一般认为，有机化合物的光氧化和热氧化过程是相伴发生的，石蜡中的极性物质或其它键能较小的烃类类受光的作用先生成（）的分子，接着分子键断裂，这样由于氧化作用生产了羰基、羟基等典型降解产物，再进一步氧化，使产生着色基团，导致石蜡变色变质，严重影响使用价值。A .游离态B .激发态C .化合态D .氧化态

[单选题]以下油脂中，发生热氧化聚合速度最快的是（）.A . 大豆B . 橄榄油C . 花生D . 亚麻油

[单选题]当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。A . 温度B . 硅-二氧化硅界面处的化学反应C . 氧的扩散速率D . 压力