关于细胞毒素水肿描叙，错误的是()。

A．白质、灰质同时受累

B．T2WI之边缘信号较高

C．钠与水进入细胞内，造成细胞肿胀

D．细胞外间隙减少，常见于慢性脑梗塞的周围

E．细胞外间隙减少，常见于急性脑梗塞的周围

[单选题]关于细胞毒素水肿描叙，错误的是（）A . 白质、灰质同时受累B . T2WI之边缘信号较高C . 钠与水进入细胞内，造成细胞肿胀D . 细胞外间隙减少，常见于慢性脑梗塞的周围E . 细胞外间隙减少，常见于急性脑梗塞的周围

[单选题]关于间质性水肿描叙错误的是（）A . 结合水增加B . 脑室内压力增高所致C . 脑组织内压力增高所致D . 信号强度明显高于脑脊液E . 如急性脑积水或交通性脑积水

[单选题]关于呼吸门控技术描叙，错误的是()。A．呼吸运动伪影干扰胸腹部的MR成像B．做胸腹部MR检查需要使用呼吸门控C．一般在每一呼吸周期的吸气相采集数据D．呼吸触发及呼吸门控技术与心电触发及门控技术相似E．触发是利用呼吸波的波峰固定触发扫描达到同步采集数据

[单选题]关于呼吸门控技术描叙，错误的是（）A . 呼吸运动伪影干扰胸腹部的MR成像B . 做胸腹部MR检查需要使用呼吸门控C . 一般在每一呼吸周期的吸气相采集数据D . 呼吸触发及呼吸门控技术与心电触发及门控技术相似E . 触发是利用呼吸波的波峰固定触发扫描达到同步采集数据

[单选题]关于组织补偿技术的错误描叙是（）A .栔型板是剂量补偿B .在高能X(y)线情况下使用组织补偿器必须贴近皮肤表面以提高皮肤剂量C .补偿器分为组织补偿器喝剂量补偿器D .补偿器一般用重金属材料制造E .补偿器可以用于IMRT技术

[单选题]关于细胞毒性脑水肿描述，错误的是（）A .多由脑缺血缺氧引起B .常见于超急性脑梗死或急性、亚急性脑梗死病灶的周围C .脑组织缺血初期以细胞毒性水肿为主，随后出现血管源性水肿D .T1WI信号变化不如T2WI敏感E .DWI技术是目前检出细胞毒性脑水肿最敏感的方法，呈现高信号，ADC值明显升高

[单选题]关于顺磁性对比剂的描叙，错误的是（）A . 低浓度时，主要使T1缩短B . 高浓度时，主要使T2缩短C . 常用T1效应作为T1WI中的阳性对比剂D . 顺磁性金属元素，其化合物的水溶液无顺磁性E . 浓度高时，出现超过T1效应，使MR信号降低

[单选题]关于螯合态钆毒性描叙错误的是（）A . 不须做过敏试验B . 肾功能不全的患者慎用C . 会使肾小球过滤功能下降D . 与自由钆离子的毒性相同E . 钆的螯合物聚集，一定程度上会引起的神经细胞代谢改变

[单选题]属于细胞毒素的外毒素是：A.白喉毒素B.破伤风痉挛毒素C.肉毒毒素D.链球菌红疹毒素E.产气荚膜梭菌毒素

[单选题]关于阻塞性脑积水的MRI描叙错误的是（）A . 是结合水B . T2WI高于脑脊液的信号C . 分布在脑室周围的脑白质D . T2WI又低于脑脊液的信号E . T1WI明显高于脑脊液的信号