半导体三极管工作过程中（）。

A . 发射区杂质浓度大于基区杂质浓度；

B . 发射区杂质浓度小于基区杂质浓度；

C . 发射区杂质浓度等于基区杂质浓度；

D . 发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。