A .气相
B .液相
C .固相
D .半固体
E .气溶胶
[单选题]化学发光免疫测定最常用的反应体系为()A . 气相B . 液相C . 固相D . 半固体E . 气溶胶
[单选题]化学发光免疫测定最常用的反应体系为()A.气相B.液相C.固相D.半固体E.气溶胶
[单选题]化学发光免疫测定最常用的反应体系为()A.气相B.液相C.固相D.半固体E.气溶胶
[单选题]化学发光免疫测定最常用的反应体系为A.气相B.液相C.固相D.半固体E.气溶胶
[单选题,B型题] 化学发光免疫测定中常用的发光底物为().A . 吖啶酯B . 鲁米诺C . 三联吡啶钌D . HRPE . AP
[单选题]化学发光免疫分析的类型A.化学发光酶免疫测定B.化学发光免疫测定C.微粒子化学发光免疫分析D.电化学发光免疫测定E.时间分辨免疫荧光测定
[单选题]电化学发光免疫测定中常用的发光底物为A.三联吡啶钌B.AMPPDC.4-MUPD.鲁米诺E.吖啶酯
[单选题]电化学发光免疫测定中常用的发光底物为()A.吖啶酯类B.鲁米诺C.三联吡啶钉D.HRPE.AP
[单选题]电化学发光免疫测定中常用的发光底物为()A.吖啶酯类B.鲁米诺C.三联吡啶钉D.HRPE.AP
[单选题,B型题] 电化学发光免疫测定中常用的发光底物为().A . 吖啶酯B . 鲁米诺C . 三联吡啶钌D . HRPE . AP