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集成电路制造工艺员三级
集成电路制造工艺员
[单选题]
钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是()杂质。
A . 替位式
B . 间隙式
C . 施主
D . 可能是替位式也可能是间隙式
参考答案与解析:
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