[单选题]

光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。

A . 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶

B . 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶

C . 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶

D . 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

参考答案与解析:

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