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集成电路制造工艺员三级
集成电路制造工艺员
[多选题]
下列有关ARC工艺的说法正确的是()。
A . ARC可以是硅的氮化物
B . 可用干法刻蚀除去
C . ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成
D . ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层
E . ARC膜也可以通过CVD的方法形成
参考答案与解析:
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