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集成电路制造工艺员三级
集成电路制造工艺员
[单选题]
不可以对SiO
2
进行干法刻蚀所使用的气体是()。
A .CHF
3
B .C
2
F
6
C .C
3
F
8
D .HF
参考答案与解析:
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