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集成电路制造工艺员三级
集成电路制造工艺员
[单选题]
在刻蚀二氧化硅过程中假如我们在CF
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的()内加入适量的氢气,能够降低刻蚀的速率。
A . 气体
B . 等离子体
C . 固体
D . 液体
参考答案与解析:
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