A . MOS栅极
B . 保护性元件
C . 电容器极板
D . 制造只读存储器PROM
E . 晶圆背面电镀
[问答题] 在半导体制造技术中,高k介质和低k介质各自应用在什么地方,为什么?
[问答题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶?
[多选题] 在半导体工艺中,与氮化硅比较,二氧化硅更适合应用在()。A . 晶圆顶层的保护层B . 多层金属的介质层C . 多晶硅与金属之间的绝缘层D . 掺杂阻挡层E . 晶圆片上器件之间的隔离
[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误
[填空题] 半导体制造类企业的关键风险是()。
[单选题]卫生伐可以应用在()。A .用材林中B .防护林中C .任何林种中D .森林公园中
[判断题] 半导体显示器因其亮度高,耗电量小而被广泛应用在各类数码显示器中。A . 正确B . 错误
[单选题]SPS调度可以应用在()方向A . 仅上行B . 仅下行C . 仅上行和下行同时应用D . 上行或下行或上下行同时应用
[单选题]群的观点可以应用在()A .晶体分类上B .物理上各种守恒定律C .几何学D .以上全部是
[多选题] 沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片()的不希望有的物质。A . 功能B . 成品率C . 物理性能D . 电学性能E . 外观