什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

[问答题] 光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误

[问答题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？

[单选题]光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。A . 150－200℃B . 200℃左右C . 250℃左右D . 300℃左右

[问答题] 光刻的本质是什么？

[问答题] 编制探伤工艺的基本要求是什么？

[问答题] 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

[问答题] 焊点质量的基本要求是什么？

[问答题] 光刻和刻蚀的目的是什么？

[问答题] 什么是负性光刻？正性光刻？