半导体材料题库

[名词解释] 单位接触电阻

[单选题]悬浮区熔法检验多晶硅中基磷含量时，采用快速区熔法的工艺时，第一次区熔时，第一区熔区停留挥发时间（）左右。A . 3ｍｉｎB . 5ｍｉｎC . 7ｍｉｎD . 10ｍｉｎ

[问答题] 影响谱带（位移）的因素有哪些？说明其影响规律和原因？

[名词解释] 发射极注入效率系数

[名词解释] 阈值反型点

[名词解释] 同型异质结

[填空题] 硅单晶的（）是一个重要的基本电学参数。根据单晶制备时所参杂的元素，它们是三价的还是五价的，可以将单晶化分为P型和N型两大类。

[单选题]下列哪一项不是天然水的三大杂质？（）A . 悬浮物质B . 挥发物质C . 胶体物质D . 溶解物质

[名词解释] 非辐射复合

[名词解释] 堆积层电荷

[名词解释] 电子亲合规则

[填空题] 四探针法测试，C的大小取决于四探针的（）和针距。

[名词解释] 表面散射

[填空题] 半导体材料的电阻率与（），以及载流子迁移率有关。

[名词解释] 俄歇复合

[填空题] 氧和碳在硅晶体中都呈（）分布。

[名词解释] 沟道电导

[名词解释] 转换系数

[名词解释] 基区渡越时间

[问答题] 按构成集成电路基础的晶体管分类可以将集成电路分为哪些类型？每种类型各有什么特征？

[问答题] 光刻和刻蚀的目的是什么？

[问答题] 描述热氧化过程。

[问答题] 什么是单晶、多晶？

[名词解释] 接触

[问答题] 简述N型半导体。

[问答题] 例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。

[问答题] 例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

[单选题]若某半导体导带中电子出现几率为零，则此半导体必定（）。A . 处于绝对零度B . 不含任何杂质C . 不含任何缺陷D . 不含施主

[问答题] 说明水汽氧化的化学反应，水汽氧化与干氧氧化相比速度是快还是慢？为什么？

[问答题] 例举并描述6种不同的塑料封装形式。陶瓷封装的两种主要封装方法是什么？