例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。

[填空题] 硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤（）、（）和（）。

[判断题] 在硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤：预淀积、推进和激活。A . 正确B . 错误

[问答题] 例举得到半导体级硅的三个步骤。半导体级硅的纯度能达到多少？

[问答题,论述题] 以P2O5为例，多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。

[问答题] 例举并描述薄膜生长的三个阶段。

[问答题] 例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。

[判断题] 扩散性半导体应变计是将N型咋杂质扩散到高阻的P型硅基片上,形成一层极薄的敏感层制成的A . 正确B . 错误

[填空题] 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。

[问答题] 杂质在硅中的扩散方式有哪些？

[问答题] 哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。