[填空题] 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种,分别是()扩散和()扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分,即(),才有助于形成半导体硅。
[填空题] 在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质,在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新的杂质补充,这种扩散方式称为:()
[多选题] 下列扩散杂质源中,()不仅是硅常用的施主杂质,也是锗常用的施主杂质。A . 硼B . 锡C . 锑D . 磷E . 砷
[单选题]下列哪些元素在硅中是快扩散元素:()。A . NaB . BC . PD . As
[问答题,论述题] 以P2O5为例,多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。
[填空题] 硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤()、()和()。
[问答题] 例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
[判断题] 在硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤:预淀积、推进和激活。A . 正确B . 错误
[问答题] MTBE产品中的杂质有哪些?哪些是有害杂质?哪些是无害杂质?
[问答题] MTBE产品中的杂质有哪些?哪些是有害杂质,哪些是无害杂质?