下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。

[单选题]半导体硅常用的施主杂质是（）。A . 锡B . 硫C . 硼D . 磷

[单选题]化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是（）。A . 锡B . 硼C . 磷D . 锰

[填空题] 在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新的杂质补充，这种扩散方式称为：（）

[单选题]如果杂质既有施主的作用又有受主的作用，则这种杂质称为（）。A .施主B .受主C .复合中心D . D.两性杂质

[单选题]半导体硅常用的受主杂质是（）。A . 锡B . 硫C . 硼D . 磷

[问答题] 杂质在硅中的扩散方式有哪些？

[填空题] 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。

[单选题]油脂杂质检测常用（）。A .定量滤纸B .快速滤纸C .慢速滤纸D . D.中速滤纸

[单选题]杂质限量常用的表示方法有A.mgB.ngC.mol／LD.gE.%或ppm

[单选题]杂质限量常用的表示方法有A.mgB.ngC.mol／LD.gE.%或ppm