[单选题]

在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。

A . DQN

B . CA

C . ARC

D . PMMA

参考答案与解析:

相关试题

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。

[单选题]在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。A . 化学增强B . 化学减弱C . 厚度增加D . 厚度减少

  • 查看答案
  • 在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。

    [多选题] 在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。A . CA光刻胶对深紫外光吸收小B . CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C . CA光刻胶在显影液中的可溶性强D . 有较高的光敏度E . 有较高的对比度

  • 查看答案
  • 如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。

    [判断题] 如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。A . 正确B . 错误

  • 查看答案
  • 光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是,光刻胶只对特定波长的光线敏感,例如深紫外线和白

    [判断题] 光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是,光刻胶只对特定波长的光线敏感,例如深紫外线和白光,而对黄光不敏感。A . 正确B . 错误

  • 查看答案
  • 用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶()。

    [单选题]用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶()。A . ARCB . HMDSC . 正胶D . 负胶

  • 查看答案
  • 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

    [判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误

  • 查看答案
  • 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?

    [问答题] 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?

  • 查看答案
  • 若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区,光刻时需要使用哪种光刻胶?为什

    [问答题] 若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区,光刻时需要使用哪种光刻胶?为什么?并简介光刻操作流程。

  • 查看答案
  • 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

    [问答题] 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

  • 查看答案
  • 曝光后烘焙,简称后烘,其对传统I线光刻胶是必需的。

    [判断题] 曝光后烘焙,简称后烘,其对传统I线光刻胶是必需的。A . 正确B . 错误

  • 查看答案
  • 在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。