[单选题]光刻工艺中,脱水烘焙的最初温度是()。A . 150-200℃B . 200℃左右C . 250℃左右D . 300℃左右
[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A . 正确B . 错误
[问答题] 什么叫光刻?光刻工艺质量的基本要求是什么?
[问答题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶?
[问答题,论述题] 典型的光刻工艺主要有哪几步?简述各步骤的作用。
[问答题] 光刻工艺的主要流程有哪几步?什么是光刻工艺的分辨率?从物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?
[问答题] 简述工艺设计在总体设计中的重要性。
[问答题] 什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。
[填空题] 光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。
[问答题] 简述仪表在社交中的重要性。