[问答题,论述题] 热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关?淀积速率的测量采用什么办法?
[问答题] 淀积层(illuvialhorizon)
[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,磷的扩散温度为()。A . 600~750℃B . 900~1050℃C . 1100~1250℃D . 950~1100℃
[名词解释] 物理气相淀积(pvd)
[判断题] 在硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤:预淀积、推进和激活。A . 正确B . 错误
[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,砷和锑的扩散温度为()。A . 1050~1200℃B . 900~1050℃C . 1100~1250℃D . 1200~1350℃
[填空题] 二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。
[单选题]在热扩散工艺中的预淀积步骤中,硼在950~1100℃的条件下,扩散时间大约()为宜。A . 4~6hB . 50min~2hC . 10~40minD . 5~10min