热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关？淀积速率的测量采用什么办法？

[名词解释] 预淀积

[问答题,论述题] CVD淀积过程中两个主要的限制步骤是什么？它们分别在什么情况下会支配整个淀积速率？

[问答题] 淀积层（illuvialhorizon）

[名词解释] 淀积粘化

[名词解释] 化学气相淀积

[名词解释] 物理气相淀积（pvd）

[填空题] 二氧化硅的制备方法很多，其中最常用的是高温（）、（）淀积、PECVD淀积。

[问答题] 有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法？

[多选题] 在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。A . 均匀性B . 表面平整度C . 自由应力D . 纯净度E . 电容

[单选题]（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。A . 蒸镀B . 离子注入C . 溅射D . 沉积