[单选题]焦饼中心温度是焦炭成熟的指标,一般生产中焦饼中心温度达()时焦饼已成熟。A . 800±50℃B . 900±50℃C . 1000±50℃D . 1100±50℃
[填空题] 焦饼的中心温度一般在()℃,焦饼上、下温差应小于()℃。
[填空题] 成熟的焦饼中心温度为()℃
[单选题]当焦饼中心温度达到()时,焦炭即告成熟。A .800℃B .950℃C .1000℃D .1050℃
[填空题] 焦饼中心温度一般控制在()。
[判断题] 焦饼中心温度一般控制在1000±50℃。A . 正确B . 错误
[单选题]虽然机、焦侧焦饼中心温度一致,但焦侧焦饼平均温度()机侧,故随焦饼带走的热量过多,因此,焦侧耗热量大于机侧。A .低于B .高于C .等于D .不高于
[问答题] 在什么情况下要测量焦饼中心温度?怎样测量焦饼中心温度?
[单选题]规定的焦饼中心温度()。A .(800±50)℃B .(900±50)℃C .(1000±50)℃
[填空题] 测焦饼中心温度是为了(),对大型硅砖焦炉来说,要求最终的焦饼中心温度是()。