[问答题] 电阻器如何分类？电阻器的主要技术指标有哪些？
[问答题] 什么叫额定值？什么情况下要考虑降额使用？举例说明极限值的含义。
[多选题] 直流二极管辉光放电系统是由（）构成。A . 抽真空的玻璃管B . 抽真空后再充入某种低压气体的玻璃管C . 两个电极D . 加速器E . 增益管
[单选题]（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A . 蒸镀B . 溅射C . 离子注入D . CVD
[单选题]（）是因为吸附原子在晶片表面上彼此碰撞并结合所形成的。A . 晶核B . 晶粒C . 核心D . 核团
[问答题] 试总结电子元器件大致分为几代；对电子元器件的主要要求是什么？
[多选题] 电气测量仪表若按照电流的种类来分，有（）。A . 低压仪表B . 高压仪表C . 直流仪表D . 交流仪表E . 交直流仪表
[问答题] 请用四色环标注出电阻：6.8kΩ±5％，47Ω±5％。
[单选题]（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。A . 蒸镀B . 离子注入C . 溅射D . 沉积
[问答题] 已知电阻上色标排列次序如下，试写出各对应的电阻值及允许偏差：“橙白黄金”、“棕黑金金”、“绿蓝黑棕棕”、“灰红黑银棕”
[问答题] 电容器的额定工作电压是指其允许的最大直流电压或交流电压有效值吗？
[多选题] 微电子领域内，下列测厚仪中属于有台阶的测厚仪为（）。A . 台阶仪B . 干涉显微镜C . 光切显微镜D . 扫描电镜E . 椭偏仪
[单选题]物理气相沉积简称（）。A . LVDB . PEDC . CVDD . PVD
[单选题]真空镀膜室中的钟罩与底盘构成（）。A . 衬底加热器B . 抽气系统C . 真空室D . 蒸气源加热器
[问答题] 电子工艺技术人员的工作范围是哪些？
[单选题]用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。A . 蒸镀B . 离子注入C . 溅射D . 沉积
[单选题]决定吸附原子彼此间能否形成一个稳定的核团，以便于进行凝结的主要因素主宰于所形成的核团是否（）而定。A . 动能最低B . 稳定C . 运动D . 静止
[单选题]薄膜沉积的机构，依发生的顺序，可以分为这几个步骤。其中不包括（）。A . 形成晶核B . 晶粒自旋C . 晶粒凝结D . 缝道填补
[多选题] 按加热源的不同，可以分成（）几种不同类型的蒸发。A . 真空蒸发B . 离子束蒸发C . 电子束蒸发D . 粒子束蒸发E . 常压蒸发
[问答题] 用五色环标注电阻：2.00kΩ±1％，39.0Ω±1％。
[单选题]电气测量仪表中，整流式对电流的种类与频率的适用范围是（）。A . 直流B . 工频及较高频率的交流C . 直流及工频交流D . 直流及工频与较高频率的交流
[问答题] 电子工艺技术培养目标是什么？
[多选题] 一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。A . 产生一个离子并导向靶B . 被轰击的原子向硅晶片运动C . 离子把靶上的原子轰出来D . 经过加速电场加速E . 原子在硅晶片表面凝结
[多选题] 为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求，金属材料应该满足（）。A . 低电阻率B . 易与p或n型硅形成欧姆接触C . 可与硅或二氧化硅反应D . 易于光刻E . 便于进行键合
[多选题] 从电极的结构看，溅射的方法包括（）。A .直流溅射B .交流溅射C .二级溅射D . D.三级溅射E .四级溅射
[单选题]（）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。A . LPCVDB . PECVDC . CVDD . PVD
[问答题] 请说明表面安装元件上文字的含义及元件名称：
[问答题] 电子元器件的主要参数有哪几项？
[单选题]《金融违法行为处罚办法》规定，金融机构提供虚假的或者隐瞒重要事实的财务会计报告、统计报告的，（）。A . 给予通报批评，并处10万元以上50万元以下的罚款B . 给予警告，并处1万元以上10万元以下的罚款C . 对该金融机构直接负责的高级管理人员给予撤职直至开除的纪律处分，对其他直接负责的主管人员和直接责任人员给予记大过直至开除的纪律处分D . 构成提供虚假财会报告罪或者其他罪的，由公安机关依法追究刑事责任
[单选题]用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。A . 重要步骤B . 次要步骤C . 首要步骤D . 不一定